快科技5月10日消息，近日，一则"上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量交付"的消息刷屏半导体圈。对此，芯智讯发布文章辟谣，直指该资讯存在多处严重事实错误。文章首先质疑了报道的信源问题。一位光刻机厂商内部人士直言："这是假消息，光刻机哪里来的良率。要知道台积电28nm工艺2011年量产后，直到2012年8月良率才勉强超过80%。另一个不实说法是"2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子首次公推进示了SSA800样机"。展会期间及结束后，也没有任何正规媒体报道过此事。最离谱的是"量产良率90%~95%"的说法。报道声称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体行业峰会上首次官宣SSA800系列实现全面量产"。虚假的"放卫星"不仅会误导公众，还会破坏业态链踏实攻坚的严肃性。上海微电子官方也从未发布过相关公告。网上所有关于该峰会的内容，全部都是与"上海微电子官宣量产"绑定的自媒体通稿。芯智讯，自己当时就在展会现场，上海微电子的展该领域。该报道仅以"据报道"含糊其辞，没有提及任何具体的权威来源，这对于光刻机这样的重大科技新闻来说，显然缺乏基本的严肃性。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，混合匹配套刻精度为3.5nm，每小时可处理200片晶圆。一位国内晶圆代工厂人士透露，目前SSA800系列并未进入任何商业化晶圆厂，该领域展开测试验证。所谓的"首批批量交付"和"量产工艺验证"均与事实不符。据了解，SSA800实际上就是近几年市场一直传闻的国产“28nm光刻机”，是一款193nmArF浸没式光刻机，套刻精度控制在2.3~2.5nm，每小时可解决150片晶圆，对标的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。"该行业的设备，本身不存在"良率"这一指标。即这一探讨的良率，这个数字也过于夸张。文章最后表示，期盼国产光刻机突破是每一个中国人的朴素情感，但越是渴望，越应该守住理性底线。但调查发现，这个所谓的“长三角半导体行业峰会”没有任何权威媒体报道，查不到举办时间、地点、主办方等任何基本信息。该范围突围，从来不需要靠炒作来证明自己。如需转载请务必注明出处：快科技
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